最先进的纳米加工能力,挑战样品制备质量的极限
是一款集成了电子束和离子束的电子显微镜系统。SEM 镜筒提供高分辨成像能力,FIB 镜筒能在成像的同时对样品进行加工处理。双束电镜系统开创了一种全新的应用方式,这是之前任何一个分立系统都无法完成的领域。
主要优势:
·世界一流的样品制备质量
它可以在低电压下完成最后抛光并获得小于 20 nm 且具有极高品质的超薄 TEM 样品。
·最大限度地制备各类样品
能够产生高达 100 nA 的离子束流,同时保证离子束的质量。因此,无论是在低离子束流下制备精密的纳米结构,还是利用高离子束流以满足大体积蚀刻的要求。
·具有极高品质的纳米加工
镜筒的最低电压可至 500 V,因此可以进行更微量的加工,方法同样适用于 制备 EBSD 分析的样品、去层之后完成最终抛光的小于 20 nm 芯片的结构表征。
·更充分的利用离子束
可配备多达 3 支 OptiGIS。也可以选5 支同轴喷嘴的气体注入系统,实现不同的特殊气体和实用的平面IC去层方案。
·轻松实现最高精度和最佳 FIB 性能
FIB 镜筒配有超稳定的高压单元和精确的压电驱动光阑变换器。
·更加优秀的成像能力
镜筒内探测器系统经过进一步优化,信号检测效率提高了三倍以上。
·增强的表面灵敏度、衬度
镜筒可以提供的电子信号选择检测功能。
·快速三维分析功能
新型强化的镜筒内探测系统结合高达 100 nA 的大离子束流,可实现快速数据采集,用于 3D 超微结构研究和 3D 微量分析表征。
应用案例:


产品手册: